2004年06月02日

間違えた

先ほど書いた記事のLDDを勘違いしているのに偶然気づき、Lightly Doped Drainと直したりしていたのだが、さらに大きな勘違いをしていた。

NchのS/Dのインプラ後にPoly Si表面を酸化するのではなく、Poly Si Etchが終わった直後に酸化することを思い出した。で、これから2つ遡って大きく変更する。
posted by ピッコロ大魔王 at 13:45| Comment(0) | TrackBack(0) | 講座 | このブログの読者になる | 更新情報をチェックする
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